품목분류사례
RTP(Rarid Thermal Processor) Centura
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이미지 준비중물품설명
기능 - RTP Chamber를 급속히(최고 1,200℃: 초당 75℃) 가열하여 Chember내에 들어있는 실리콘 웨이퍼를 소둔(Annealing)함 물품구성 - Mainframe : 웨이퍼의 운반이 이루어지는 설비의 기본 몸체로 RTP chamber와 cool chamber가 부착됨 - RTP Chamber : 실제 급속한 온도변경에 의해 공정이 이루어지는 용기 - Cool Chamber : 공정후의 웨이퍼를 식혀주는 용기 - System Controller/AC Box: 중앙제어부, 전원공급장치
결정이유
본건 물품은 웨이퍼상에 증착된 메탈등이 웨이퍼 깊숙히 침투하여 안정화 즉, 소둔(Annealing)될 수 있도록 급속가열(초당 75℃)하는 장치로서 반도체 웨이퍼 가열 장비임. 관세율표 해설서 8514호(Ⅰ)에[전기로 및 오븐은 주로 약간 밀폐된 공간 또는 용기로 되어 있어서 그 내부에서 비교적 고온이 얻어지는 것이다. 이러한 것은 다목적 (용해, 소둔 등)으로 사용된다]고 설명되어 있음 본 건 물품은 최고 1,200℃(일반적으로 800℃)까지 가열할 수 있는 웨이퍼 가열장치로서 HSK8514.30-1010호에 분류됨