품목분류사례
Photo Resist Coater(감광액 도포기, ACT12F1)
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이미지 준비중물품설명
ㅇ 구성요소
- C/S부 : 웨이퍼를 공급 및 수납하는 장소
- Coat부 : 감광액을 웨이퍼에 도포
- Bake부 : 도포를 마친 웨이퍼를 구워서 유기용제를 증발시킴
ㅇ 기능 및 용도
- 노광시 필수원료인 감광액(Photo resist)을 웨이퍼상에 도포하는 장비
로
- 웨이퍼를 Process Chamber로 이동후 Spinner라는 회전을 하는 장치위
에 올려놓고 감광성 물질인 Photo Resist를 먼저 웨이퍼상에 Dispense한
후 웨이퍼를 고속으로 회전시켜 PR을 균일한 두께로 코팅. 도포가 완료된
웨이퍼를 Bake부로 이송하여 유기용제를 증발시킴.
결정이유
ㅇ 관세율표 제8479.89-20호에는 “반도체 제조용의 기기”가 분류되며, 8479.89-2010호에는 “포토레지스트를 도포·현상 또는 경화시키는 기계” 를, 8479.89-2099호에는 기타 반도체 제조용기기를 특게하고 있음. ㅇ 본 물품은 Spinner 위에 반도체웨이퍼를 올려 놓고 감광성 물질인 PR 을 Dispense한 후 고속회전시켜 균일한 두께로 코팅하는 장비로 - 8479.89-2010호에는 “포토레지스트를 도포·현상 또는 경화시키는 기 계”에 대해서만 양허하고 있으며, 본 물품은 PR의 도포만을 하는 반도체 제조용기기이므로 8479.89-2010호에 분류할 수 없음. ㅇ 따라서, 본 물품은 PR 도포와 현상기능까지 함께 수행하는 트랙장비가 아니므로 기타 반도체제조용기기(8479.89-2099)로 분류함.