품목분류사례
DryScrub ; 2DH
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이미지 준비중물품설명
ㅇ 기능 및 용도
- 반도체 제조공정에서 CVD장비의 배기 Gas를 이온화하여 독성/폭발성 Gas
를 Electrode위에 단단한 고체 막으로 전환시키고 환경 친화적인 중화된
Gas로 배출
- 반도체 제조 공정 설비 중 하나인 CVD장비의 Process Gas를 공정 진행
후 배기시킬 때 Gas의 Powder로 인한 진공 배관 및 Pump의 막힘 현상 및 기
능 저하를 방지하기 위함
ㅇ 주요 구성요소 및 기능
- Chamber : 진공배관의 Vacuum을 유지
- Electrode : Chamber내부에 장착되며 RF Power가 공급되어 Plasma를 형성
- Power Supply : RF Power를 공급하는 장치
ㅇ 작동원리
- CVD장비에서 발생된 배출 Gas는 Exhaust Gas Line에 설치된 DryScrub를
거쳐 별도의 Vacuum Pump를 통하여 배출됨
- 배출 Process가 진행되면 DryScrub Chamber에 RF Power를 공급하고
- 배출 Gas를 이온화시키게 되며
- 이온화된 Gas 일부는 재결합되어 Electrode에 침착하게 되고 나머지는 별
도의 Pump를 통하여 배출됨
결정이유
ㅇ 관세율표 제8421호 에는 “기체용의 여과 또는 청정기”를 규정하고 있고 - 관세통계통합품목분류표(HSK) 제8421.39-9020호에서는 반도체제조용의 기 체 여과기와 청정기를 규정 ㅇ 본 물품은 반도체 제조공정에서 CVD장비의 배기 Gas를 이온화하여 독성/ 폭발성 Gas를 Electrode위에 단단한 고체 막으로 전환시키고 환경 친화적 인 중화된 Gas로 배출하는 것으로 반도체제조용의 기체 여과기와 청정기에 해당 ㅇ 따라서 통칙1의 규정에 의거 반도체제조용의 기체 여과기와 청정기 (8421.39-9020)로 분류