품목분류사례
Ion Implantation System ; ISDR7392V2(원산지 ; Japan)
이미지
이미지 준비중물품설명
ㅇ 기능 및 용도
- AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diode)의 TFT(Thin Film
Transistor) 형성시 Glass 기판 상의 다결정 실리콘(p-Si) 박막 속에
Dopant 이온을 주입하여 p-Si 박막의 막질을 변화(면저항 감소) 시키는 장
비
* AMOLED : TFT를 각각 화소부 스위치로 사용하여 화소부에 증착된 유기
EL (Electro-Luminescence) 박막을 발광시켜 화면을 구현하는 디스플레이
ㅇ 작동원리
- DC 전원이 걸린 진공 챔버 속에 Dopant Source Gas(PH3/H2, B2H6/H2)를
주입해 Plasma 상태를 만들고 이 Plasma 속의 Dopant 이온들(PHx+, B2Hx+)
에 판형태의 전극을 이용, 전기장을 가해주어 장방형의 빔 형태로 가속시킴
- 최대크기 370*470㎜ 유기기판 위에 증착, 결정화된 p-Si 박막에 상기의
이온빔을 조사하면 p-Si 박막속의 Si 원자속에 Dopant 이온이 첨가되어 전
자 또는 정공 등의 Carrier 들을 증가시킴으로서 p-Si 박막의 저항을 감소
시킴