품목분류사례
UV Bake(PS3)
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이미지 준비중물품설명
ㅇ 기능 및 용도
- Wafer에 회로를 노광한 후 Wafer에 도포된 Photo Resist(감광액)을
Etching공정에서의 효율을 높이기 위해 자외선을 이용한 온도변화 및 광안
정(Photostabilization)을 통해 PR을 경화(단단히 굳힘)시키는 장비
ㅇ 구성 및 작동원리
- ① UV 램프 : 챔버의 뚜껑에 장착되어 Wafer에 UV광을 공급
② Power Supply : UV 램프 및 장비에 필요한 전원을 공급
③ Robot System : 설비내부에 장착되어 Wafer를 챔버로 이송
④ 제어부 : 설비 작동 및 UV 램프의 세기를 제어
- 노광공정을 거친 Wafer를 Robot시스템을 이용하여 챔버로 이송하여 UV
광을 Wafer 표면에 일정시간 노출시켜 Wafer에 도포된 PR을 경화
결정이유
ㅇ 관세율표 제8419호 에는 “가열, 건조, 증류, 증발, 기타 온도변화에 의 한 방법으로 재료를 처리하는 기계, 설비, 장치”가 분류되며 - 동호 해설서에서 “이 호에는 단순히 온도의 변화만을 일으키게 하기 위하여 또는 온도변화(예 : 가열, 조리, 배소, 증류, 정류, 살균, 건조, 증발, 응축, 냉각공정)의 결과로 재료가 변형되도록 하기 위하여 재료(기 체, 액체, 고체)를 가열 또는 냉각공정에 놓도록 제작된 기계와 설비가 포 함된다. ..” 라고 해설하고 있음. ㅇ 본 물품은 UV램프를 이용한 온도변화와 광안정작용을 이용하여 PR을 경 화시키며 - 제8514호 에서 해설하고 있는 용해, 용접 등의 기능을 하는 비교적 고온 이 얻어진다고 하기 어렵고, 제8514호 해설서에서 “이 호에는 건조, 살 균, 기타 이와 유사한 작용을 하는 전기식 가열기기를 제외한다(제8419 호)”라고 해설하고 있음{ 제8514호 제외이유} ㅇ 따라서, 본 물품은 Wafer에 도포된 PR을 UV램프를 조사해서 경화시키 는 장치로 온도변화에 의한 방법으로 재료를 처리하는 증발 및 건조장치 (8419.39-9000)로 분류함