품목분류사례
Photomask etching system; CENTURA TETRA Ⅱ;; 미국산
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이미지 준비중물품설명
□ 물품 개요
Mainframe, Plasma 식각용 Chamber, 진공펌프, AV-Rack 등으로 구성된
것으로서 Photomask 제조공정에서 블랭크마스크를 노광, 현상한 Mask의
Chrome, Mo-Si, Quartz를 Plasma를 이용하여 건식 식각하는 장치임
□ 구성 및 형태(신청인 작성 물품설명서)
ㅇ Applied Materials Standard Centrtura AP platform(Mainframe)
ㅇ Chrome, Mo-Si, Quartz의 Plasma 건식식각용 Chamber 3개
ㅇ 진공펌프 : 각 Chamber의 진공상태 유지를 위한 장치
ㅇ AC-Rack : 안정적인 전원공급 장치
□ 특징
ㅇ 65nm node급 공정 성능 구현
ㅇ Multi-chamber 장착기능으로 탁월한 확장성 유지
ㅇ Chrome, Mo-Si, Quartz etch 가능
ㅇ Real-time optical emission endpoint monitoring :
식각의 정도를 조절할수 있는 장치
ㅇ Production-proven AMAT 300mm Wafer chamber technology