Portable parylene deposition system ; Model PDS 2010 LABCOTER? 2

□ 물품개요 : 진공상에서 실리콘 웨이프 표면에 parylene박막을 형성시키 는 증착기 □ 구조 및 기능(신청인 제시 카다로그) 기화부(Vaporize), 열분해부(Pyrolysis), Deposition 챔버, 콜드 트랩, 진 공펌프로 구성 ① 기화부 : 원재료(Di-para-xylylene)가 투입되어 열에 의해 원재료를 고 체 상태에서 기체상태로 기화시키는 역할 ② 열분해부 : 기화된 원재료를 600℃도 이상에서 증착이 가능한 형태의 가스(para-xylylene)로 열분해하는 역할 ③ Deposition 챔버: 제품 표면에 화학 반응에 의하여 기체상의 가스가 고 체상의 박막(poly-para-xylylene)으로 형성됨 ④ 콜드 트랩 : 챔버 밖으로 흘러나간 가스를 포집하여 진공펌프의 오염 을 막는 역할 ⑤ 진공펌프 : 패럴린코터 진공조건 유지 역할

ㅇ 관세율표 제8486호 에는 “반도체 보울 또는 웨이퍼,반도체디바이스,전 자집적회로 또는 평판디스플레이의 제조에 전용 또는 주로 사용되는 기계 와 기기, 이 류의 주 제9호 다목에서 특정한 기계와 기기 및 부분품과 부 속품”이 분류됨 - 동호 해설서에서 “반도체디바이스 또는 전자집적회로 제조용 기계와 기기”에는 “막 형성 장비-이 장비는 웨이퍼 가공 공정에서 웨이퍼 표면 에 여러 가지 막을 형성한다. 이러한 막은 완성품 위에서 도체, 절연체 및 반도체 역할을 한다. 이들 막은 표면, 금속 및 epitaxial층의 산화물 과 질화물 등을 포함하고 있다”가 분류되며, - “막 형성 장비”에는 “화학기상증착(CVD, Chemical Vapor Deposition) 장비- 이 장비는 높은 온도의 반응 Chamber내에서 적절한 가 스와 결합하여 만들어진 여러 가지 형태의 필름을 증착시키는 장치이다. 이 반응은 열화학적 기상 반응으로 이루어져 있다. 이러한 반응 작용은 대 기압 또는 저압상태에서 이루어질 수 있고 플라즈마 강화를 이용할 수도 있다”를 해설하고 있음 ㅇ 본품은 반도체 웨이프를 고온의 Chamber내에서 poly-para-xylylene으 로 절연막을 증착시키는 장비임 ㅇ 따라서, 본품은 관세율표 제8486호 및 소호의 용어에 따라 제8486.20- 4000호에 분류함.