품목분류사례
Retainer ring for CMP(Chemical Mechanical Planariztion); Q310-042281(0040-49965)
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이미지 준비중물품설명
링 구조로 CMP장비에 장착되어 wafer slip out 방지 및 slurry 유입 터미널 등의 역할을 하는 물품(재질 : SUS+PEEK)
결정이유
- 관세율표 제8486호에는“반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)·반도체디바이스·전자집적회로·평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제9호 다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”이 분류되고, - 동 호 해설서에서“부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부...