Part of dry plasma etching equipment; CFR RING; 8.4T CFR FLAT RBP DS75-8
결정기관
관세평가분류원
문서번호
0072019003515
이미지
물품설명
반도체디바이스 제조 장비인 건식 플라즈마 식각 기기의 챔버 내 설치되는 실리콘(Si) 재질의 링 형상의 물품으로 내경부에 300mm 웨이퍼를 놓을 수 있게 홈가공 되어 있음(규격 : 외경 334.8㎜, 내경 295.96㎜, 두께 8.4㎜) - 용도 : 건식 플라즈마 식각 기기 챔버에서 웨이퍼 외각부위의 식각이...
결정이유
ㅇ 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)·반도체디바이스·전자집적회로·평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제9호다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”이 분류되며, - 같은 호 HS 해설서 (B) 반도체디바이스나 전자집적회로...
